集成电路版图设计 [陆学斌 主编] 2012年版

集成电路布局设计

作者：陆学斌 主编

出版时间:2012版

内容简介

集成电路地图设计主要介绍集成电路地图设计，主要包括半导体设备和集成电路工艺的基本知识、集成电路常用设备的地图设计方法、流行地图设计软件的使用方法、地图验证过程、集成电路地图实例等。集成电路布局设计适用于高校微电子技术和集成电路设计专业布局设计课程的教材，也可作为集成电路布局设计师的参考书。这本书由陆学斌主编。

目录

第1章 半导体器件理论基础 1.1 半导体的电学特性 1.1.1 性格结构和能带 1.1.2 电子与空穴 1.1.3 半导体杂质 1.1.4 半导体的导电性 1.2 PN结构及特性 1.2.1 PN结的结构 1.2.2 PN结的电压电流特性 1.2.3 PN结的电容 1.3 MOS晶体管的场效应 1.3.1 MOS晶体管的场效应的结构与工作原理 1.3.2 MOS管的电流电压特性 1.3.3 MOS管的电容 1.4 双极晶体管 1.4.1 双极晶体管的结构与工作原理 1.4.2 双极晶体管的电流传输 1.4.3 双极晶体管的基本性能参数 本章总结第2章 集成电路制造工艺 2.1 硅片制备 2.1.1 单晶硅制备 2.1.2 硅片的分类 2.2 外延工艺 2.2.1 概述 2.2.2 外延工艺的分类与用途 2.3 氧化工艺 2.3.1 二氧化硅薄膜概述 2.3.2 硅的热氧化 2.4 掺杂工艺 2.4.1 扩散 2.4.2 离子注入 2.5 薄膜制备工艺 2.5.1 化学气相积累 2.5.2 物理气相积累 2.6 光刻技术 2.6.1 光刻工艺流程 2.6.2 光刻胶 2.7 刻蚀工艺 2.8 CMOS集成电路基本工艺流程 本章总结第三章 操作系统与Cadence软件 3.1 UNIX操作系统 3.1.1 UNIX操作系统简介 3.1.2 UNIX常用操作 3.1.3 UNIX文件系统 3.1.4 UNIX文件系统常用工具 3.2 Linux操作系统 3.3 虚拟机 3.4 Cadence软件 3.4.1 Cadence软件概述 3.4.2 建立电路图 3.4.3 布局设计规则 3.4.4 版图编辑大师 3.4.5 地图的建立和编辑 3.4.6 版图验证 3.4.7 Dracula DRC 3.4.8 Dracula LVS 本章总结第四章 电阻 4.1 概述 4.2 电阻率和方块电阻 4.3 电阻的分类和布局 4.3.1 多晶硅电阻 4.3.2 阱电阻 4.3.3 有源区电阻 4.3.4 金属电阻 4.4 电阻设计依据 4.4.1 电阻变化 4.4.2 实际电阻分析 4.4.3 电阻设计依据 4.5 电阻匹配规则 本章总结第5章 电容和电感 5.1 电容 5.1.1 概述 5.1.2 电容的分类 5.1.3 电容的寄生效应 5.1.4 电容匹配规则 5.2 电感 5.2.1 概述 5.2.2 电感的分类 5.2.3 电感的寄生效应 5.2.4 电感设计标准 本章总结第6章 二极管及外围装置 6.1 二极管 6.1.1 二极管分类 6.1.2 ESD保护 6.1.3 二极管匹配规则 6.2 外围器件 6.2.1 压焊块(PAD) 6.2.2 连线 本章总结第7章 双极晶体管 7.1 概述 7.2 发射极电流集边效应 7.3 双极晶体管的分类与版图 7.3.1 标准双极工艺NPN管 7.3.2 标准双极工艺衬底PNP管 7.3.3 标准双极工艺横向PNP管 7.3.4 BiCMOS工艺晶体管 7.4 双极晶体管版图匹配规则 7.4.1 双极晶体管版图基本设计规则 7.4.2 纵向晶体管设计规则 7.4.3 横向晶体管设计规则 本章总结第8章 MOS晶体管的场效应