常识星球（星球名：与封测手艺社区，星球号：63559049）里的学员问：后都市退火，退火的感化是什么？不退火行不行？离子注入对造成哪些影响？
离子注入时，高能的杂质离子加快撞击硅片外貌，将其动能转化为热能和位移能，惹起硅原子的迁徙和重排，破坏了硅的晶格布局，会发生位错、空地等缺点。此外，杂质离子被注入进入硅中后，这些离子大多停留在晶格间隙中，并不能很精准地进入到对应的晶格点阵地位，那末就很难起到改良硅导电性的搀杂感化。
离子注入后退火的感化？
离子注入后退火是必弗成少的步调，退火的感化有：
1，修复：退火工艺经由过程低温，使硅原子取得足够的能量举行散布和迁徙，从新排列成有序的晶格布局。原子在退火过程当中逐步移动到能量最低的地位，位错、空地等逐步缩小直至消逝，从而缩小晶格中的缺点和应力。
2，激活：退火使这些搀杂离子（As，P，B）在硅晶格中散布，进入晶格点阵地位，与硅原子构成共价键，构成稳固的搀杂原子。搀杂浓度漫衍匀称，电学活性进步，完成所需的导电特点。
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