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【射频知识】PCB材料/层叠/信号注入设计与传输线实现形式的性能比对

时间:2022-09-01 09:30:00 电容的s参数转换z参数微带同轴连接器308电容电池保护板专用3w耐冲击电阻电容器的df电容器df值

文章目录

  • 前言
  • 一、PCB材料的选择
    • 1.PCB材料的主要参数
    • 2.介电常数
    • 3.插入损耗
    • 4.TCDk 与 Moisture absorption
    • 5.玻璃编织(Glass weave)的影响
    • 6.介质层厚度的影响
    • 7.铜层表面处理
  • 二、PCB层叠设计
  • 三、传输线设计
    • 1.GCPW电路设计
    • 2.SIW电路设计
  • 四、PCB注入设计的信号
    • 1、PCB注入信号示例
    • 2、TDR测试
      • (1)什么是TDR?
      • (2)傅里叶分析综述
      • (3)如何实现VNA的TDR功能?
      • (4)如何使用TDR分析过渡
    • 3.比较不同的实现形式
  • 总结


前言

PCB从基本模型到实际加工的实现形式,需要注意最终加工的设计PCB设计指标预期的设计指标。


一、PCB材料的选择

微波PCB(印刷电路板)种:

— 基于PTFE(聚四氟乙烯)

  • Woven-glass(玻璃织物)
  • Non-Woven-glass
  • Filled PTFE woven or non-woven-glass

— 基于Hydrocarbon(碳氢化合物)

  • Ceramic(陶瓷) filled
  • Woven-glass(玻璃织物)
  • Non-Woven-glass

Woven-Glass PTFE
在这里插入图片描述
Woven-Glass ceramic filled PTFE

Woven-Glass ceramic filled hydrocarbon


Non-woven-Glass ceramic filled PTFE


1.PCB材料的主要参数

  • Dielectric constant 介电常数
  • Dielectric loss 介电损耗
  • TCDk 介电常数的热变化率
  • Moisture absorption 吸湿性
  • Thermal conductivity 导热系数
  • CTE 热膨胀系数
  • Peel strength 剥离强度
  • Copper roughness 铜皮粗糙度

2.介电常数

介电常数:
Dielectric Constant (Relative Permittivity, ???, Dk……)

对于一款PCB其资料手册通常分为过程Dk(Process Dk)和设计Dk(Design Dk)两个参数。

  • 过程Dk:原材料定的行业标准试验方法获得的原材料试验Dk值(按IPC-TM-250 2.5.5.5c夹紧带状线试验)
  • 设计Dk:建议电路设计和建模Dk值。Dk通过电路测试,采用微带差分相位长度法获得值。

高Dk值的材料会使电磁波变慢

除了高Dk粗糙的铜箔表面也会减慢波的传播速度


使用相同的基材,但使用不同的铜类型和不同的铜表面粗糙度。测试的相对介电常数如下图所示:

可见铜表面粗糙(RMS高)电路有效率高Dk值。


3.插入损耗

PCB插入损耗是许多应用的重要调查指标。

α T = α C α D α R α L α_{T}=α_{C} α_{D} α_{R} α_{L} αT=αC αD+αR+αL

其中,
α T α_{T} αT 表示插入损耗或整体(Total)损耗
α C α_{C} αC 表示导体(Conductor)损耗
α D α_{D} αD 表示介质(Dielectric)损耗
α R α_{R} αR 表示辐射(Radiation)损耗
α L α_{L} αL 表示泄露(Leakage)损耗

了解插入损耗的哪一部分占主导地位,对理解插入损耗的变化非常有帮助。

测试三组电路如下图,使用相同的材料,但厚度不同。
薄电路主要由导体损耗(通常是铜粗糙度)决定。
厚电路主要是介质损耗(主要与Df有关)决定。


α c o n d , r o u g h = α c o n d , s m o o t h ∗ K S R α_{cond,rough} = α_{cond,smooth}*K_{SR} αcond,rough=αcond,smoothKSR

K S R = 1 + 2 π a r c t a n ( 1.4 [ R q δ ] 2 ) K_{SR} = 1 + \frac{2}{π}arctan(1.4[\frac{R_{q}}{δ}]^2) KSR=1+π2arctan(1.4[δRq]2)

对于确定的铜箔,已知 R q R_{q} Rq ,则有:
频率增加,趋肤深度减小; K S R K_{SR} KSR 增加, α c o n d , r o u g h α_{cond,rough} αcond,rough 增加。

因此,趋肤深度对于高频信号是一个重要的导体损耗的组成成分。当趋肤深度与表面粗糙度接近或小于表面粗糙度时,表面粗糙度会显著增加导体损耗,改变导体的传播常数。


4.TCDk 与 Moisture absorption

任意层压板的Dk值都会随温度的变化而变化,一般的经验法则是,TCDk为|50| ppm/°C或更少被认为是好的。RO3003™层压板的TCDk为-3 ppm/℃

Moisture absorption有时也是非常重要的。
下图显示了仅3天的85/85测试造成的插入损耗及设计Dk值差异:


5.玻璃编织(Glass weave)的影响

许多层压板都有玻璃编织(Glass weave)织物来加固基材的机械性能,其所使用的玻璃束的Dk值一般在6左右,而在束间开放区域层合板的Dk要低得多,一般在2.1 ~ 3左右,这取决于树脂体系。因此玻璃编织效应会对高频电路的电性能产生负面影响。


考虑到在较高频率下信号具有非常小的波长,由于玻璃编织图案的对齐,同一电路上的导体可能具有不同的相位响应。


6.介质层厚度的影响

  • 通常,低频应用将使用较厚的基片以获得更宽的导体宽度,这有助于增加导体中的电流和改善电路的热管理。
  • 更高频率的应用将使用更薄的基板。在毫米波频率下,通常需要更薄的衬底来避免不必要的共振、杂散模式和过度的辐射。

毫米波频率应用的辐射损失将会是一个重要的问题。
信号导体和地平面之间可以产生共振:

共振也可以在信号导体的相对边缘之间产生:

  • 当W为1/2或1/4波长时,会产生共振,并且共振会产生自己的电磁波。
  • 共振产生的电磁波将会是一个杂散波,它会干扰预期的准TEM波;一个好的设计限制是没有任何特征尺寸>1/8波长。

因此,厚度可能是一个问题,但通常导体宽度更重要。
例如使用0.0166’‘厚度的RO4350B™基板,当导体宽度为0.036’'(50Ω微带线宽)时:

  • 对应46.5GHz的1/4波长为0.036’’
  • 对应23.8GHz的1/8波长为0.036’’

当传输线全部处在空气或者真空中时, V φ = c = 3 × 1 0 8 m / s V_{φ} = c = 3×10^8m/s Vφ=c=3×108m/s

当传输线全部处相对介电常数为 ε r ε_{r} εr的介质中时,则 V φ = c ε r V_{φ} = \frac{c}{\sqrt{ε_{r}}} Vφ=εr c

微带线的部分电场在介质中,部分在空气中,空气和介质对其相速都有影响,其影响相对大小,由电场在这两部分占据范围的相对大小以及介质和导体边界的形状与尺寸所决定,但可以肯定,其相速一定在 c c c c ε r \frac{c}{\sqrt{ε_{r}}} εr c 范围之间。因此,我们引入有效介电常数 ε e ε_{e} εe 这一参量来表示此种影响,则有:

V φ = c ε e V_{φ} = \frac{c}{\sqrt{ε_{e}}} Vφ=εe c

对于 ε e ε_{e} εe 的值有许多近似公式,多是 W / h W/h W/h 的值来划分。此处只给出一种近似公式:

ε e = 1 + ε r 2 + ε r − 1 2 ( 1 + 10 h W ) − 0.5 ε_{e} = \frac{1 + ε_{r}}{2} + \frac{ε_{r} - 1}{2}(1 + \frac{10h}{W})^{-0.5} εe=21+εr+2εr1(1+W10h)0.5

测试结果表明,1/8波长后的插入损耗曲线有越来越多的噪声。

表面粗糙度较大的铜导体损耗较大。使用相同的材料,但使用不同的厚度和不同的铜类型,薄电路比厚电路更容易受到导体损耗差异的影响。
压延铜的粗糙度为~ 0.35微米均方根;这种特殊的ED铜的粗糙度约为2.0微米均方根。


7.铜层的表面处理

在最终电路生产中,铜层的电镀处理也会影响导体损耗,尤其是在高频率的情况下。不幸的是,许多用于pcb表面处理的金属的导电性不如铜,添加这些表面处理会导致导体损耗的增加。

例如,尽管镍的导电性不如铜,化学浸镍金(electroless nickel immersion gold,ENIG) 表面处理也通常用于pcb工艺,而且使用ENIG表面处理不可避免地会导致导体损耗的增加。典型的ENIG导线堆叠会从电路的基本铜开始,然后是防止铜氧化物迁移的屏障层,也就是镍层,最后在镍层的上面是金层。就厚度而言,ENIG是一种自我限制工艺,通常会产生0.2 μm左右的金层厚度,而镍层的厚度为5.0 μm。对于毫米波频率的趋肤深度,将使用镍和一些金。但在更高的毫米波频率下,将使用到更多的金层。但是金的导电性仍然不如铜,所以使用这种表面处理将导致导体损耗的恶化。下图显示了在相同材料上制作的电路的插入损耗曲线,将裸铜电路的插入损耗与使用ENIG表面处理的电路的插入损耗进行比较。

与裸铜材料相比,ENIG表面处理的材料有明显的高损耗趋势。但在较低频率下,损耗特性略有不同。这很大程度上是因为镍太厚了,而电流密度由于趋肤深度的关系,在较低的频率下,镍比铜或金使用的更多。在20GHz左右,趋肤深度导致金层被使用更多。随着频率的增加,更多的金层被使用,ENIG材料的插入损耗曲线开始平行于裸铜材料。

纯银比纯铜的导电性更好,但用于将银添加到PCB表面的浸银工艺实际上使用的是银合金,而不是纯银。它接近纯银,所以银合金的导电性非常好,接近铜。浸银工艺具有自限性,因此银添加在薄涂层中,厚度通常在0.2 μm范围内。但是,银会随着时间的推移而氧化,而金则不会氧化。尽管银的氧化会改变其外观,但它显然不会显著影响PCB成品的插入损耗性能。对使用超过2.5年的氧化银电路的研究显示,插入损耗没有显著差异。

目前大部分60GHz以上的毫米波产品的表面处理都是以沉银和OSP为主,毫米波频段就基本不用ENIG(或沉金)了。OSP是印刷电路板(PCB)铜箔表面处理的符合RoHS指令要求的一种工艺。 OSP是Organic Solderability Preservatives的简称,中译为有机保焊膜,又称护铜剂,英文亦称之Preflux。 简单地说,OSP就是在洁净的裸铜表面上,以化学的方法长出一层有机皮膜。这层膜具有防氧化,耐热冲击,耐湿性,用以保护铜表面于常态环境中不再继续生锈(氧化或硫化等);但在后续的焊接高温中,此种保护膜又必须很容易被助焊剂所迅速清除,如此方可使露出的干净铜表面得以在极短的时间内与熔融焊锡立即结合成为牢固的焊点。相比于沉金使用化学沉积的方式,镀金使用电流电镀的方式,但镀金价格昂贵,性能也比沉金更好。现在还存在镍钯金的工艺,镍钯金是多了钯层,增加了焊盘的支撑,其镍层相对化学镍金要薄一些, 但这两种都有镍层,其对插入损耗都有明显的影响。

导电率从小到大:锡<铁<铝<金<铜<银。导电最强的是银。但一般不会直接使用裸铜,因为直接裸铜不做任何保护的话,在后续使用中裸铜会氧化也会被腐蚀,从而影响性能和可靠性。


二、PCB层叠设计

微波PCB(PRINTED-CIRCUIT-BOARD)传输线技术是相当知名的,包括微带、带状线和共面波导(CPW)技术等。然而,由于尺寸和体积的限制,高频电路设计人员越来越多地使用多层pcb,这是由多个覆铜基片和结合层形成的。成功地实现多层pcb需要一些关于这些电路是如何制造的知识,以及了解多层pcb电路相比单层电路设计的特殊要求。

为了更好地理解微波多层电路的制作过程,可以使用带状线传输线作为示例电路。带状线通常用于微波频率的无源和有源电路设计。它包括两个外层金属层作为接地面和一个单一的内层作为信号或导电层。金属层由介电基板材料隔开。为pcb的层命名惯例是基于导电层的数量,并且在具有一个信号层或导电层的带状线电路中,当包括两个接地层时,在技术上有三个导电层。在这个简单的例子中,带状线电路是用一种叫做 预浸料(prepreg,PP) 的粘合材料制成的,这种材料围绕在包含信号层的覆铜层板周围。预浸料层本质上是未固化的介电基板,用于将覆铜层与另一原始铜箔层结合,形成带状线电路的三个铜平面——两个接地平面和一个信号平面。

在这种PCB结构中,预浸料就像胶水层一样,将多层粘合在一起。为了形成牢固的粘结,预浸料必须经过层压或固化过程,在此过程中,待粘结层在压力和高温下保持;预浸料的类型及其材料性能将决定固化时间和固化温度。在固化周期的早期阶段,预浸料将呈现凝胶状态,并将“流动”在其他待粘合层的特征周围。预浸料的流动使材料能够填充铜电路之间的空间和口袋区域以及层压基板表面的任何不规则区域,确保预浸料的介电材料填补了任何空穴,并创建了一个更可预测的电气结构,没有空气间隙(显示出不同的介电常数)。


上图显示了带状线PCB制造过程的各个阶段的框图。该过程从覆铜层开始,在其上选择性的蚀刻其铜层之一以形成电路的信号层;另一层铜层将形成带状线电路的地平面之一。然后将预浸料层添加到层压板上,并在其顶部添加铜箔层以形成第二条带接地平面。然后对这些多层材料进行层压处理,在此过程中预浸料在压力和温度下固化成形。

上图并没有显示带状线电路的一个重要部分:如何从外界连接到信号层。这是通过在PCB上与电路图案对齐的区域钻孔来实现的。然后这些钻孔涂上铜,形成电路径,称为镀通孔(PTHs)。为了保持带状线的电路性能一致,保持顶部和底部接地平面在相同的电势是至关重要的,所以PTHs是将两者之间的电气连接必不可少的通道。对于这种类型的带状线电路,射频/微波连接器通常安装在电路组件的顶部,连接器的信号发射使用PTH作为到内部导体或信号层的电路径。下图显示了实际带状线电路及其三层铜层的截面照片。

大多数多层微波pcb可以通过多种不同的方式组装,每种方法都有自己的优点和局限性。例如,除了前面描述的方法外,示例带状线电路可以通过使用两个覆铜层板和较少的预浸料材料来制造。使用这些起始材料,制造过程的第一部分将是相同的,其中一个层板的铜层蚀刻形成电路的信号层或导电层。在第二种情况下的层压过程中,首先要添加一层薄的预浸料,然后是第二层镀铜层板,只不过这第二层板会把一面上的所有铜都去掉。这一边是预浸料将被用来粘合到蚀刻的信号层。下图显示了示例带状线电路如何用这种制造方法形成;在这种情况下,PTHs连接顶部和底部的地面是最初单独层板的铜层。


如果这两种制造方法都导致带状线电路,为什么使用一种方法而不是另一种?第一种方法更具成本效益,因为预浸料材料的成本通常低于镀铜层压板。第一种方法只使用了一个覆铜层、几层预浸料和一层铜箔,而第二种方法使用了两层覆铜层(尽管预浸料较少)。第二个覆铜层的成本超过了在第一种方法中其他附加材料的成本。

还必须考虑的是预浸料的性能经常不同与层压板的性能。第一个带状线结构的特征是基于层板和预浸料之间的性能分裂。第二个带状线结构主要由两层板的性能决定。层压板可能比预浸料(prepreg)具有较低的热膨胀系数(CTE),它会影响电路在不同温度下的可靠性性能——较低的CTE相比于具有较高CTE的带状线结构提供了更强的可靠性。预浸料材料也比层压材料表现出更高的电损耗,这可以作为带状线电路的一个考虑因素,尤其是需要最大限度地减少损耗的电路。还有电路制造的成品率问题,有时这两种方法中的一种会有更好的电路成品率。

在形成这些多层电路时,应该指出预浸料这个术语实际上指的是各种各样的粘合材料,每种材料都有自己的一套特性和性能。预浸料通常是一种热固性材料(热是固化剂),它有编织玻璃的强化。但是,一些预浸粘接材料也可以在没有支撑的情况下使用(没有编织玻璃加固),这些材料提供了它们自己的一套好处和挑战。


图(a)所示的制造工艺主要用于需要低成本生产的应用,尽管其对预浸料材料性能的强烈依赖性也可能影响使用这种方法的选择。
图(b)所示的方法可以用于微带电路的性能比带状线电路的性能更关键的情况。这是因为在电路制造商中,覆铜层压板的厚度控制通常优于预浸箔层压板。此外,极低损耗的覆铜层板可用于微带电路的顶部和底部层,使这些层与带状线电路层相比具有出色的性能。
图©所示的方法可能适用于带状线电路性能必须尽可能好的应用场合。通过使用低损耗覆铜层板和少量的预浸料来创建电路结构的内层,可以获得良好的带状线电路性能。此外,如果外部微带电路层的性能不是很关键,通过铜箔和预浸料制造这些外部层可以获得一些成本效益。
图(d)支持对覆铜层板性能要求最高的应用场合。当然,这些只是几种可能的电路制造方法,其他许多可能的方法取决于电路设计师的创造力,以及电路应用的机械和电气要求。


三、传输线设计

常见的PCB传输线形式为以下四种:

  • Microstrip 微带线

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